欢迎参观TI DLP展位

TI 诚邀您参观2016慕尼黑上海光博会，TI专家以及方案商将现场演示并解说如何利用DLP先进光控技术实现3D机器视觉，3D打印，光谱分析以及数字曝光等创新应用，助您优化设计成本，加快项目设计进程，您不约吗？！

---

日期：3月15日-3月17日

地点：上海新国际博览中心W3馆3300号

点击https://www.ti.com.cn/ww/dlp/LP/index.html#rd?sukey...立即预约，您还将享受以下 VIP 权益：

VIP 绿色通道畅通无阻

VIP 休息室随时开放

VIP 午间套餐补充能量

TI 专家现场洽谈会

---

TI 备受赞誉的 DLP 技术一直引领着市场，这得益于其创新型先进光控制可应用于诸多工业市场。DLP 数字微镜器件 (DMD) 是一种微镜阵列，用于实现实时、有效、高度可靠的空间光调制。DLP 先进光控制产品系列依托于数字影院和消费类投影中的行业领先地位，在数字曝光、机器视觉、3D 打印、光谱分析和其他多个工业应用领域提供差异化解决方案。采用 TI 功能强大而又简便易用的开发工具，您可以更快、更轻松地将高度创新型产品推向市场。

---

D机器视觉

DLP技术是机器视觉的“理想”解决方案

使用可靠的反光MEMS微镜的数字开关

• 可编程结构光支持将自定义和可调节图形投影到目标对象上，从而捕获物理测量值、分析定位或检查表面
• 各种DMD分辨率提供了灵活的打印尺寸设计，可支持从DLP3000 (608x684) 到DLP9000 (2560x1600)的分辨率
• 可调节的比特深度支持二进制和灰度图形，以便在时间和距离发生变化时确保精度

可重复且精确的3D测量

• 3D机器视觉的无创性方法
• 适用于要求更苛刻环境的密封封装选项

评估模块可加快开发速度

• 多个完整的硬件模块同时集成了电子和光学器件
• 软件开发套件可提供校准和点云生成例程

精确的高速3D测量

• 较高的深度准确性，从微米到毫米
• 各种 DMD 分辨率可实现最佳的点云密度和调光
• 输入和输出触发器可轻松实现从 4 kHz 到 32 kHz 图形帧速率的可扩展高速捕获

最大限度地降低了对颜色、距离、运动和环境的敏感度

• 可配置光源支持单色和彩色图形，从而实现365nm至2500nm之间的光学效率
• DMD设计本质上可最大限度降低温度敏感度，从而使3D测量真实可靠

---

3D打印

采用 DLP 产品的 3D 打印构建光滑、复杂的对象

分辨率与速度的完美组合

• 各种 DMD 分辨率提供了灵活的打印尺寸设计，可支持从 DLP3000 (608x684) 到 DLP9000 (2560x1600) 的分辨率
• 立体光刻 3D 打印 TI 参考设计采用了 DLP4500，可作为开发者构建 3D 对象的参考
• 可通过从 4kHz 到 32kHz 的 DMD 图形帧速率自定义构建速度

每立体像素小于 50um 的超高分辨率图形

• 构建更大的打印包络
• 轻松调整层厚度以实现精确的渐进式打印

高达 32kHz 的图形速率，可提高吞吐量和速度

• 一次性打印一整层
• 构建速度不受层复杂性或部件数量的影响

光源兼容性可支持多系统配置

• DLP 芯片的光学有效范围为 363 - 2500 nm
• 固化多种光敏聚合物和树脂

数字微镜提供可靠且可重复的光导

• 高光学功率处理能力可支持快速固化树脂
• 7、10 和 13um 的微镜间距，可使打印对象平滑、精细 

---

光谱分析

DLP® 技术将会主导您的光谱分析解决方案

单个可编程的光谱引擎

• 可检测多种材料
• 对“扫描线”、“匹配滤波”或“编码滤波”进行编程，以优化光谱数据

TI DLP 芯片提供可编程波长滤波

• 恒定 SNR 扫描
• 即时波长和分辨率调节
• 化学计量算法

无需再使用易损且价格昂贵的组件

• 设计紧凑、稳定可靠的系统，适用于便携式应用
• 可编程的独立数字微镜代替了移动梯度或固定阵列探测器

评估模块可加快将 DLP 芯片集成到客户独特的光谱仪设计中的速度

• DLP NIRscan™ 针对近红外线光谱仪设计解决方案评估 DLP4500NIR
• 以光学方式分析液体和固体
• 可在不到 1 秒的时间内获取数据，信噪比 (SNR) 大于 30,000:1
• 单元件探测器设计取代了 InGaAs 阵列，能够以更实惠的价格点提供高光通量

可随时间和温度变化重复出现的光谱数据

• 不受环境条件的影响而提供精确的测量数据

---

数字曝光

图像直接通过采用 DLP 产品的数字曝光系统实现光阻效果

具有高达 32 kHz 的图形速率和 60 Gbps 像素数据速率的独立、可编程数字微镜

• 快速曝光，且固化过程不受图形复杂性的影响
• 灵活选择分步重复、滚动或其他图形模式
• 可支持系统周期时间，以实现批量生产

无掩模解决方案可提供更加高效并“可纠错”的系统

• 动态地以数字方式更改图形，无需使用打印板或掩模
• 通过数字更新动态地改进设计迭代过程
• 更低的总体运营成本

可实现微米级特性的精度

• DLP 芯片可提供 7、10 和 13 微米的微镜间距

从 DLP 评估模块开始，从而更快抢占市场

• Discovery™ 4100 EVM 提供了随机行寻址选项，可实现最高级的独立微镜控制

---