『鸿之微讲堂系列』之 下一代集成电路工艺设计辅助软件TCAD 培训及交流会

2016/11/29 18:00 - 2016/11/29 20:00

上海市浦东新区碧波路635号传奇广场3楼IC咖啡,近地铁2号线张江高科站5号口(祖冲之路松涛路)

不限参加人数

『鸿之微讲堂系列』之 下一代集成电路工艺设计辅助软件TCAD 培训及交流会

2016/11/29 18:00 - 2016/11/29 20:00

上海市浦东新区碧波路635号传奇广场3楼IC咖啡,近地铁2号线张江高科站5号口(祖冲之路松涛路)

不限参加人数

活动介绍

主要课程


随着集成电路产业的迅猛发展,传统半导体器件的尺寸迅速减少,以及新兴集成电路和材料的出现,这些传统的TCAD方法和软件已经面临着巨大的挑战,相应的辅助计算模拟和工艺设计软件发展遇到瓶颈,将完全无法承担10nm左右的电子器件的设计问题。


其主要困难来自于:

(1)当器件到达纳米尺度甚至原子尺度时,量子效应将起重要作用,而传统的模型和方法没有完备地包含量子效应;

(2)随着器件尺寸的缩小,微观的材料结构,制备,和工艺的差异,将会对器件的性质带来极其显著影响,而传统的模型和方法很难处理材料和器件细节对功能的影响;

(3)经验和经典的TCAD设计方法和软件依赖于大量的实验参数,然而当器件达到纳米尺度后,通过实验手段获得可靠的参数变得越来越困难和费时费力。

(4)诸多新型电子器件和电子材料的不断问世,完全超出了传统TCAD方法的应用范围。这些新型电子器件已经和即将在MRAM,太阳能,电动汽车,生物技术等领域有巨大应用前景。在传统TCAD模拟方法面临诸多困难的情况下,基于原子水平的TCAD应运而生。


议程安排

2.jpg

嘉宾简介


主讲嘉宾:曹荣根

● 复旦大学材料科学系材料物理与化学专业,博士。

● 长期从事集成电路器件和工艺研究,发表 SCI 文章 15 篇,拥有专利5项。

● 2003年与日本滨松光子株式会社合作,共同组建当时国内最先进的集成电路失效定位分析实验室,该实验室先后为国内300家半导体企业开展过相关服务。

● 2014年发起成立鸿之微科技(上海)股份有限公司并出任董事长。


活动详情


【活动时间】:2016年11月29日下午,18:00-20:00

【活动地点】:上海浦东新区碧波路635号传奇广场3楼IC咖啡,近地铁2号线张江高科站5号口(祖冲之路松涛路)

【活动报名】点击下方"阅读原文"即可参与报名;或现场签到直接参加!

【活动费用】:限前50位报名者免费参加,现场提供精美茶歇


活动标签

活动地图

上海市浦东新区碧波路635号传奇广场3楼IC咖啡,近地铁2号线张江高科站5号口(祖冲之路松涛路)